CB*3005-1985船用柱塞液压缸基本
2023-09-01
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涉及俄歇电子能谱 溅射的标准有13条。
国际标准分类中,俄歇电子能谱 溅射涉及到分析化学、光学设备、光学和光学测量、金属材料试验、电子元器件综合、无损检测。
在中国标准分类中,俄歇电子能谱 溅射涉及到化学助剂基础标准与通用方法、基础标准与通用方法、电子光学与其他物理光学仪器、金属化学分析方法综合、标准化、质量管理。
BS ISO 17109:2022表面化学分析 深度剖析 使用单层和多层薄膜的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率的测定方法...
21/30433862 DCBS ISO 17109 AMD1 表面化学分析 深度剖析 使用单一和……的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率测定方法
BS ISO 17109:2015表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
ISO 17109:2015表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
ISO 17109:2022表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
GB/T 35158-2017俄歇电子能谱仪检定方法
GB/T 26533-2011俄歇电子能谱分析方法通则
GB/T 28632-2012表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.横向分辨率测定
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SJ/T 10458-1993俄歇电子能谱术和X射线光电子能谱术的样品处理标准导则
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ASTM E996-19俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
ASTM E995-16俄歇电子光谱和X射线光电子能谱背景减法技术标准指南
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