GB4138-1984稀土镁硅铁合金
2024-12-26
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涉及高效靶材的标准有51条。
国际标准分类中,高效靶材涉及到有色金属产品、机械试验、有色金属、术语学(原则和协调配合)、半导体材料、金属生产、陶瓷、粉末冶金、玻璃、无损检测。
在中国标准分类中,高效靶材涉及到标准化、质量管理、重金属及其合金、金属力学性能试验方法、重金属及其合金分析方法、轻金属及其合金、贵金属及其合金、、、、稀土金属及其合金、稀有高熔点金属及其合金、、、、、、粉末冶金材料与制品、金属物理性能试验方法、建筑玻璃、稀有轻金属及其合金、金属无损检验方法。
GB/T 39157-2020靶材技术成熟度等级划分及定义
GB/T 39160-2020薄膜太阳能电池用碲锌镉靶材
GB/T 39163-2020靶材与背板结合强度测试方法
GB/T 39159-2020集成电路用高纯铜合金靶材
GB/T 38389-2019氧化铟锡靶材化学分析方法
GB/T 20510-2017氧化铟锡靶材
GB/T 29658-2013电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
GB/T 23611-2009金靶材
GB/T 20510-2006氧化铟锡靶材
YS/T 1555-2022铂钴铬硼合金溅射靶材
XB/T 512-2020镝、铽金属靶材
YS/T 1357-2020磁记录用铬钽钛合金溅射靶材
YS/T 1358-2020磁记录用铁钴钽合金溅射靶材
XB/T 515-2020钪铝合金靶材
YS/T 1235-2018钼钛合金(MoTi)靶材
YS/T 1234-2018铬钼合金(CrMo)靶材
YS/T 1158.3-2016铜铟镓硒靶材化学分析方法 第3部分:铝、铁、镍、铬、锰、铅、 锌、镉、钴、钼、钡、镁量的测定 电感耦合等离子体质谱法
YS/T 1158.2-2016铜铟镓硒靶材化学分析方法 第2部分:硒量的测定 重量法
YS/T 1158.1-2016铜铟镓硒靶材化学分析方法 第1部分:镓量和铟量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
YS/T 1129-2016钨钛合金靶材
YS/T 1124-2016磁性溅射靶材透磁率测试方法
YS/T 1156-2016铜铟镓硒靶材
T/ICMTIA TG0011-2022集成电路用高纯铝及铝合金溅射靶材
T/CHBAS 17-2022靶材用超高纯钨板
T/NXCL 004-2021旋转硅靶材
T/NXCL 003-2021平面硅锗靶材
T/CSRE 19001-2020金属镱靶材
T/ZZB 0639-2018氧化锌铝磁控溅射靶材
T/CAS 304-2018磁控溅射硅靶材及绑定靶材
T/ZZB 0093-2016集成电路用高纯钛溅射靶材
DB45/T 2108-2019铜铟镓硒太阳能光伏电池靶材中镓含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法
DB45/T 2109-2019铜铟镓硒太阳能光伏电池靶材中硒含量的测定容量法
DB35/T 1873-2019热喷涂旋转硅靶材通用技术条件
YS/T 1053-2015电子薄膜用高纯钴靶材
YS/T 1025-2015电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
YS/T 1024-2015溅射用钽靶材
YS/T 1063-2015钼靶材
YS/T 937-2013镍铂靶材
YS/T 893-2013电子薄膜用高纯钛溅射靶材
YS/T 936-2013集成电路器件用镍钒合金靶材
YS/T 935-2013电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
YS/T 826-2012五氧化二铌靶材
YS/T 819-2012电子薄膜用高纯铜溅射靶材
YS/T 837-2012溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
YS/T 719-2009平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶
YS/T 718-2009平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶
JC/T 2201-2013镀膜玻璃用靶材
ASTM F2113-01(2007)电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
ASTM F2113-01电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
ASTM F1512-94(1999)溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
ASTM F1512-94(2003)溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
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