标准简介：本标准的目的是制定一套可用于评估掩模缺陷检查系统灵敏度的测试掩模。这套测试掩模包括：含特制图形缺陷的测试芯片，以及不含特制图形缺陷的参考测试芯片。由于测试芯片是由各种单集合而成，所以在本标准中，测试芯片是用单图形、单图形中的特制缺陷、以及单的布局来定义的。此外，测试掩模是通过规定测试芯片的排列来定义的。本标准还讲述这套掩模的用法。

标准号：GB/T 17866-1999

标准名称：掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

英文名称：Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems

标准类型：国家标准

标准性质：推荐性

标准状态：现行

发布日期：1999-09-01

实施日期：2000-06-01

中国标准分类号（CCS）：电子元器件与信息技术>>微电路>>L56半导体集成电路

国际标准分类号（ICS）：电子学>>31.200集成电路、微电子学

起草单位：中国科学院微电子中心

归口单位：全国半导体材料和设备标准化技术委员会

发布单位：国家质量技术监督局

检测流程

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